高光譜成像儀作為光電儀器，由光源、探測器等組成。光源提供的光能量作為信息載體來刺激或照明對象，是高光譜檢測系統(tǒng)中的重要部分。那么，高光譜成像儀一般采用什么光源？本文對高光譜成像儀的原理及光源類型做了介紹。

高光譜成像儀的原理：

高光譜成像技術(shù)是一種新興無損檢測技術(shù)，它能夠同步獲取待測樣本在紫外到近紅外光譜覆蓋范圍內(nèi)的空間信息和光譜信息。一般來說，光譜和圖像屬于二維數(shù)據(jù)，高光譜圖像是一個三維高立方體，其中一維是光譜數(shù)據(jù)（γ波長），以及二維（x橫軸和y縱軸）的空間信息。其中橫軸由一系列連續(xù)的子圖像在不同的波長下一個接一個的組成：且每一個子圖像都能提供某一波長下的光譜強(qiáng)度的空間分布情況。因此，每一個高光譜圖像即可以看作是每個獨立的二維空間圖像在不同波長下的集合，又可以看做是光譜在每個像素點的集合。常見的高光譜圖像塊的獲取方式有四種：點掃描（point scan）、線掃描（line scan）、面掃描（area scan）及單層掃描（Single shot），其中線掃描指朝同一個方向把樣本以直線的形式一條接一條的儲存在文件中，它同時記錄了一張圖像的一整條直線和這條直線相對應(yīng)的每個空間像素點的光譜信息。通過光源和光檢測器的不同位置，高光譜有三種光傳輸模式：反射、透射和半透射。一般用反射模式檢測一些外部質(zhì)量特征，如尺寸、形狀、顏色、表面質(zhì)地和外部缺陷；透射模式通過捕捉接收從內(nèi)部透過的微弱光信號，反應(yīng)內(nèi)部的信息。半透射模式的光源和檢測器相互垂直，可以更深入地檢測樣品信息，而相比反射模式對表面的影響更小，而又減少了厚度的影響。

為了獲取高質(zhì)量的高光譜圖像，高光譜成像設(shè)備的組成部件既基礎(chǔ)又很重要。設(shè)備部件的選擇及其設(shè)置都需要建立在很好的理解了高光譜成像系統(tǒng)結(jié)構(gòu)的基礎(chǔ)上?；A(chǔ)的組成部件有：光源，波長散射設(shè)備，區(qū)域檢測器及配套控制軟件。

高光譜成像儀的光源類型：

光源提供的光能量作為信息載體來刺激或照明對象，是高光譜檢測系統(tǒng)中的重要部分。用于高光譜成像系統(tǒng)的典型光源包括鹵素?zé)?、發(fā)光二極管、激光和可調(diào)諧光源。大多數(shù)的高光譜系統(tǒng)采用鹵素?zé)?，一般來說鹵素?zé)裟芴峁挷ǘ喂庠葱畔ⅲ?80-2000nm），能滿足大部分高光譜系統(tǒng)的需求。鹵素?zé)舻膬?yōu)點是可以在低電壓下工作且光譜范圍廣，其缺點是相對壽命較短，熱輸出高，電壓波動影響大。